集成電路產業是信息技術產業的核心，是支撐經濟社會發展和保障國家安全的戰略性、基礎性和先導性的產業。近年來，國家投入巨資發展集成電路產業，作為集成電路產業核心的制造業也得到了蓬勃的發展，當前和今后一段時期是我國集成電路產業發展的重要戰略機遇期和攻堅期。基于這樣的形勢，國家集成電路產業技術創新戰略聯盟決定在北京組織、主辦首屆國際先進光刻技術研討會（International Workshop on Advanced Patterning Solutions），本次研討會由中國科學院微電子研究所承辦。

舉辦時間：2017年10月12日至13日（兩天）

舉辦地點：北京國際會議中心

詳細地址：北京市朝陽區北辰東路8號

主辦單位：集成電路產業記住創新戰略聯盟

承辦單位：中科院微電子研究所

官方網址：www.iwaps.org/cn

擬邀請報告：

作為在中國大陸舉辦的首個此類研討會，本次研討會和其它國際光刻會議（如SPIE Advanced Lithography Meeting）有所不同，會議以當前業界較先進的主流技術為主，其目的是研討未來五年光刻技術所面臨的問題，歸納、總結出業界可行的技術方案，為來自國內外光刻領域的優秀研究人員和工程師搭建一個深入討論的技術交流平臺，參會者能夠就設計規則、極紫外光刻、掩模、光刻技術方案、計算光刻等分享、探討各自的研究成果。作為中國國內的首個高端光刻技術研討會，本次研討會的受邀發言者均為來自光刻及其相關領域的國內、外資深專家，代表了其所在領域的國際先進水平。而數量眾多的業內領先的國內、外知名參會企業也讓報告更加豐富，也更貼近產業。